Principi operatiu:
El sputtering de Magnetron és una tecnologia de deposició de vapor físic àmpliament utilitzada. El seu avantatge bàsic rau en la seva capacitat de dipositar pel·lícules primes uniformes, denses i altament adhesives a alta velocitat a temperatures relativament baixes i la seva àmplia gamma de selecció de materials objectiu (metalls, aliatges, ceràmica, polímers, etc.).
Aplicacions:
Semiconductors i microelectrònica
Recobriment òptic
Pantalla de panell pla
Recobriment decoratiu
Recobriment molt resistent al desgast per a eines i motlles



















Característiques:
Taxa de deposició elevada
Deposició a baixa temperatura
Bona qualitat de la pel·lícula
Universalitat material
Baixa pressió de l’aire de treball
Bona capacitat de control de processos
Etiquetes populars: Magnetron Sputtering Machine, Xina Magnetron Sputtering Machine Machine, proveïdors, fàbrica
