Diverses fonts d’ions comunes en el procés de recobriment de màquines de recobriment de buit

Per millorar l’adhesió, la força d’enllaç i l’estructura de la pel·lícula de la peça, moltes màquines de recobriment de buit estan equipades amb fonts d’ions durant el procés de recobriment.
Tot i que hi ha molts tipus de fonts d’ions, el seu propòsit no és res més que netejar en línia, millorar la distribució d’energia i la modulació de la superfície xapada per augmentar l’energia del gas de reacció. La font d’ions pot millorar molt la força d’enllaç entre la pel·lícula i el substrat, i també pot millorar la duresa i la resistència del desgast de la pròpia pel·lícula. Si la capa resistent al desgast de l'eina electroplicant és generalment més gruixuda i la uniformitat de gruix de la pel·lícula no és alta, es pot utilitzar una font d'ions amb un corrent d'ions més gran i un nivell d'energia més elevat, com ara una font d'ions de sala o una font d'ions d'ànodes.
El principi de la font iònica de la capa d'ànode és similar al de la font d'ions de la sala. S’afegeix una escletxa estreta anular (rectangular o circular) amb un camp magnètic millorat i el gas de treball és ionitzat i emet a la peça de treball sota l’acció de l’ànode. La font d’ions de capa d’anodes es pot fer molt gran i llarga, especialment adequada per a l’electroplicació de grans parts com el vidre arquitectònic. El corrent d’ions de la font d’ions de la capa d’anode també és gran. Tot i això, el flux d’ions és divergent i la distribució del nivell d’energia és massa àmplia. Generalment és adequat per a grans peces de treball, vidre, desgast i peces decoratives. Però no hi ha moltes aplicacions en recobriments òptics avançats.
Aquest revestiment de buit està equipat amb una font d’ions de sala, on l’ànode i el fort camp magnètic axial treballen junts per ionitzar el gas del procés. El fort desequilibri del camp magnètic axial separa els ions de gas per formar un feix d’ions. Com que el camp magnètic axial és massa fort, cal complementar el feix de ions de la font de la sala amb electrons per neutralitzar el flux d’ions. Una font de neutralització comuna és un filament de tungstè (càtode).