La línia de producció de recobriment continu de vidre és un sistema industrial altament automatitzat i que funciona contínuament utilitzat per dipositar una o més capes de pel·lícules primes amb funcions específiques (com ara radiació baixa, control de llum solar, auto-neteja, anti-reflexió, conductivitat, etc.) a la superfície del vidre pla.
És l’equip bàsic per a un processament profund de vidre modern i s’utilitza àmpliament en els camps de la construcció, automòbils, fotovoltaics, electrodomèstics, dispositius de visualització, etc.
Línia de producció de recobriment continu de vidreS’utilitza principalment per al recobriment continu de buit de pel·lícula metàl·lica, pel·lícula d’aliatge, pel·lícula dielèctrica o pel·lícula multicapa a la superfície del vidre de l’aparell domèstic, els mobles de vidre, el vidre automobilís etc.
La línia de producció de cèl·lules solars de silici amorf s’utilitza principalment per produir grans plantilles de vidre fotovoltaic. El vidre ordinari s’utilitza com a substrat per preparar una pel·lícula conductora transparent d’oxigen a través de pressió atmosfèrica CVD o PVD, PECVD Per preparar diverses capes de pel·lícula de silici amorfes, que es produeix un ritme de magnetró per preparar pel·lícules d’alumini o elèctrodes azo, làser s’utilitza per fer servir el sistema de pel·lícules al mig i, després, després de provar i embalar, el procés de fabricació de components de bateria gran. Tot el procés no supera els deu passos.
El procés de fabricació és més senzill que el de les cèl·lules de silici cristal·lines, la taxa d’utilització dels materials de silici s’incrementa en desenes de vegades i el cost de fabricació és només d’uns 1/3 de les cèl·lules de silici cristal·lines.
La línia de producció de recobriment és adequada per recobrir pel·lícules de metall com AL, CR, SUS, NI, SN, TI i Aliatges, i també pot reaccionar per recobrir pel·lícules dielèctriques com SiO2 i TiO2. El procés de producció és totalment automàtic i continu.
L’empresa pot dissenyar i fabricar un conjunt complet d’equips en funció de la mida del substrat, els requisits tècnics i els requisits de capacitat de producció proporcionats per l’usuari.
Aquest equipament també és adequat per recobrir substrats de vidre o en peces planes com les tecles de telèfon mòbil.
La línia de producció de recobriment de vidre de baixa radiació baixa (és a dir, la línia de producció de recobriment de vidre a prova de teles de paret) és adequada per a recobriment de pel·lícula única de metall, pel·lícula composta, pel·lícula d’aliatge, pel·lícula dielèctrica i altres pel·lícules de diverses capes en vidre de gran flotació plana i també es pot recobrir en vidres corbats petits.
La línia de producció de recobriment de vidre conductiu ITO és adequada per recobrir pel·lícules conductores transparents TN, STN, TP i CF en vidre flotant de gran qualitat. És adequat per al recobriment de capes de pel·lícula SiO2/ITO i el procés de producció és totalment automàtic i continu.
Tot el conjunt d’equips es pot dissenyar i fabricar especialment segons la mida del substrat, els requisits tècnics i els requisits de capacitat de producció proporcionats per l’usuari.
Etiquetes populars: Línia de recobriment continu de vidre, fabricants de línies de recobriment continu de vidre, proveïdors, fàbrica
